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当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种，一种是化学气相沉积，也就是化学镀膜（cvd），一种是物理气相沉积，也就是真空镀膜（pvd）。化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀件表层杂质多，镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度---，一般要控制在 1000℃左右，但很多基体材料是无法经受如此高温，性能变坏。如在硬质合金刀具上蒸镀 tin，pvd真空镀膜设备价格，基体扩散出来的碳会与溶液发生反应而形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。而 pvd 技术解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生有毒或有污染的物质，镀出来的膜层硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性好，性能更稳定，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高 2-10 倍。

因此，从行业的技术发展趋势来看，等离子处理、真空法将成为未来行业技术发展的方向。