溅射镀膜基本原理是充(ar)气的真空条件下,使气进行辉光放电,这时(ar)原子电离成离子(ar+),离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电,真空镀膜,称直流(qc)溅射,真空装饰镀膜,射频(rf)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(m)辉光放电引起的称磁控溅射。 电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下,用引弧针引弧,使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电,金属真空镀膜,阴极表面快速移动着多个阴极弧斑,不断迅速蒸发甚至“异华”镀料,使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体,并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑,所以也称多弧蒸发离化过程。
金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜与您分享被pvd涂层工件材料要求:
1.除特殊涂层外,涂层材料必须是导电的;
可以涂层材料包括:高合金工具钢、高速钢、不锈钢、硬质合金、钛合金等;
2.由于涂层生成温度在380-500℃,真空镀膜加工,因此涂层工件的材料要能够承受500℃的温度而不发生性能变化(如挥发、变形、变软等),一般需要热处理3次高温回火处理;特殊低温(260-380℃)涂层工艺可降低涂层温度,具体可视工件的回火温度以及性能要求而定;
3.工件能够在涂层前进行退磁处理。
pvd镀膜
pvd是英文physical vapor deition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境---,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
真空镀膜加工-真空镀膜-金百辰真空镀膜由金百辰智能科技(浙江)有限公司提供。金百辰智能科技(浙江)有限公司是从事“pvd真空镀膜镀膜”的企业,公司秉承“诚信经营,用心服务”的理念,为您提供---的产品和服务。欢迎来电咨询!联系人:蒋。
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息,谢谢!
本文链接:https://tztz337365a2.zhaoshang100.com/zhaoshang/263462175.html
关键词: