离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，顺德pvd镀膜机，在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：
(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，真空pvd镀膜机，产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
真空镀膜材料工艺流程
原料粉末——配料——混料——原料预处理——成型——预烧——真空烧结——分拣——真空包装
溅射镀膜和蒸发镀膜的对比：
溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，pvd镀膜机厂，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量 pvd 镀膜材料。 蒸发镀膜简单便利、操作方便、成膜速度快。从工艺制造角度上来看，蒸镀材料的制造复杂度要远远低于溅射靶材，蒸发镀膜常用于小尺寸基板材料的镀膜。
抛光
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使pvd涂层产品表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对pvd涂层产品表面进行的修饰加工。抛光处理以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽。通常以抛光轮作为抛光工具。
脱气
脱气是将已经超声清洗的待镀产品在真空环境下通过加热、保温、冷却的方式使待镀产品盲孔、缝隙、焊接处，以及产品表面等部位没有被超声清洗干净的杂质、油污和易挥发的材料在高温、真空条件下挥发出来，---产品在镀膜时不会被杂质气体氧化、导致涂掉膜甚至污染炉腔的一种深层次的清洁方式。
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