溅射镀膜基本原理是充(ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(ar)原子电离成离子(ar+)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(qc)溅射，射频(rf)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(m)辉光放电引起的称磁控溅射。 电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，真空镀膜，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，铝合金真空镀膜，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。
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真空镀膜与您分享真空溅射镀膜
定义
给靶材施加高电压（形成等离子状态），真空离子镀膜厂，使正荷电气体离子撞击靶材、金属 原子飞弹，真空镀膜加工，而在样品表面形成金属皮膜的方法。
真空溅射锁膜的优缺点
优点：
· 对于任何待锁材料，只有 能做成靶材，就能实现溅射
· 溅射所获得的薄膜与基片结合---
· 溅射所获得的薄膜纯度高， 致密性好
· 溅射工艺可重复性好，膜 厚 可控制， 同 时司 以 在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜
镭雕
也叫激光雕刻或者激光打标，是一种用光学原理进行表面处理的工艺。
利用激光器发射的高强度---激光束在焦点处 . 使材料氧化因而对其进行加工.打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质，或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，而“刻”出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质， 显出所需刻蚀的图形，文字。
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