真空蒸发镀膜
真空蒸发镀膜是指在真空条件下，通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。蒸发镀膜早由 m.法拉第在 1857年提出，pvd镀膜机厂，经过一百多年的发展，现已成为主流镀膜技术之一。
真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，扬州pvd镀膜机，同时需要提供蒸---使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，是应用广泛的镀膜技术，主要应用于光学元器件、led、平板显示和半导体分立器的镀膜。真空镀膜材料按照化学成分主要可以分为金属/非金属颗粒蒸发料，氧化物蒸发料，真空pvd镀膜机，---物蒸发料等。
蒸镀材料种类
金属及非金属颗粒 ：铝蒸发料、镍蒸发料、铜蒸发料、银蒸发料、钛蒸发料、硅蒸发料、钒蒸发料、镁蒸发料、锡蒸发料、铬蒸发料、铟蒸发料、银铜蒸发料、金蒸发料、微晶银粉等。
氧化物 ：钛钽合金、锆钛合金、---合金、三氧化二铝、二氧化锆、五氧化三钛、石英环、石英片、氧化铒、钛酸---等
---物 ：---镁、---镝、等
镭雕
也叫激光雕刻或者激光打标，是一种用光学原理进行表面处理的工艺。
利用激光器发射的高强度---激光束在焦点处 . 使材料氧化因而对其进行加工.打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质，或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，而“刻”出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质， 显出所需刻蚀的图形，文字。
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