抛光
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使pvd涂层产品表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法,是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对pvd涂层产品表面进行的修饰加工。抛光处理以得到光滑表面或镜面光泽为目的,有时也用以消除光泽。通常以抛光轮作为抛光工具。
脱气
脱气是将已经超声清洗的待镀产品在真空环境下通过加热、保温、冷却的方式使待镀产品盲孔、缝隙、焊接处,以及产品表面等部位没有被超声清洗干净的杂质、油污和易挥发的材料在高温、真空条件下挥发出来,---产品在镀膜时不会被杂质气体氧化、导致涂掉膜甚至污染炉腔的一种深层次的清洁方式。
真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制zrn膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源,以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 x 10-3~6.6 x 10-13pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100~150℃。
(2)轰击清洗
真空度:通---真空度保持在2~3pa。轰击电压:800~1000v,兰溪真空镀膜,脉冲占空比20%。轰击时间:10min。
(3)手套箱
沉积锆底层
真空度:通入气,真空度保持在s x l0-1pa。靶电压:400—550v,靶功率15 n 30w/crrr2。脉冲偏压:450~500v,占空比20 %。手套箱时间:5~10min。
镀zrn膜
真空度:通入氮气,真空度保持在(3~5) x 10-1pa。靶电压:400~550v,靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压:150~200v,占空比80 %。手套箱时间:20~30min。
由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低,不容易进行反应沉积,获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化,扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源,轮毂真空镀膜,柱状弧源还是辅助手套箱源。
金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜与您分享
真空蒸镀原理
(1) 真空蒸镀是在真空条件下,真空镀膜企业,将镀料加热并蒸发,使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。
(2)气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。
(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。
蒸发源
将镀料加热到蒸发温度并使之气化,这种加热装置称为蒸发源。的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源,特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、辐射加热、激光加热蒸发源等。
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