真空镀膜-金百辰镀膜设备-真空镀膜工厂

当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种，一种是化学气相沉积，也就是化学镀膜（cvd），一种是物理气相沉积，也就是真空镀膜（pvd）。化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，真空镀膜工厂，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀件表层杂质多，镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度---，一般要控制在 1000℃左右，但很多基体材料是无法经受如此高温，性能变坏。如在硬质合金刀具上蒸镀 tin，基体扩散出来的碳会与溶液发生反应而形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，真空镀膜，造成刀具使用寿命缩短。而 pvd 技术解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生有毒或有污染的物质，镀出来的膜层硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性好，性能更稳定，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高 2-10 倍。

因此，从行业的技术发展趋势来看，等离子处理、真空法将成为未来行业技术发展的方向。

镀膜技术从重污染转为轻污染直至以后的无污染，---是前提，随着更新型的真空机械设备研发必将改变整个工业。一方面，表面处理技术的发展趋势是向低耗能无污染的技术方向发展。它取代了传统的电镀和化学处理方法，减少了传统工艺方法产生的污染，保护了环境。另一方面，表面处理技术对于---物件的表面进行各种改性改造，增强了---物件表面的耐磨性、耐腐蚀性、光滑度等属性，使得---物件在使用过程中---减少了损耗和浪费，也起到了节能的作用，符合在产业政策和产业规划上的导向。而掌握了低耗能无污染的技术的企业，能够先机。






溅射镀膜基本原理是充(ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(ar)原子电离成离子(ar+)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(qc)溅射，射频(rf)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(m)辉光放电引起的称磁控溅射。 电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，真空镀膜加工，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，真空镀膜加工厂，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。






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