pvd金属真空镀膜-兰溪pvd真空镀膜-金百辰镀膜设备

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜与您分享随着我国汽车工业的迅速---、制造技术的大量引进及数控加工技术大面积的普及，自本世纪初，pvd技术在国内掀起了第二次开---潮。与九十年代不同，目前国内pvd技术的发展更具多元性及---性，归纳起来有以下几种类型：

阴极电弧法(cathode arc deition)国内已由小圆型阴极电弧技术发展到大面积阴极电弧技术及柱型靶阴极电弧技术，主要用于tialn等薄膜的制备。

热阴极法(hot cathode plating)源于balzers的技术，主要用于tin等薄膜的制备。

磁控溅射法近年来，磁控溅射技术一直是国内涂层业的重点发展方向，先后出现了非平衡磁控溅射技术、磁控溅射加辅助离子源技术等，可制备各类薄膜。

磁控溅射附加阴极电弧法目前国内已较多采用的技术，可用于多种薄膜的制备。

空心阴极附加磁控溅射及阴极电弧法空心阴极在国内是一项传统技术，其应用市场仍旧存在。为了充分发挥此技术的特点，国内的研究者将空心阴极与磁控溅射技术、阴极电弧技术结合在一起，用于多元薄膜的制备，pvd金属真空镀膜，且这种全新的尝试已对市场产生了影响。

归纳起来，国内刀具涂层技术开发的目的仍以tialn薄膜为主，上述各类技术已可在切削刀具上制取多种膜层，pvd真空镀膜工艺参数，包括tialn薄膜，但目前所欠缺的是应用基础的研究及工业化生产工艺稳定性的保障。

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜与您分享pvd镀膜工艺溅射镀膜(sputtering)

高能量的粒子撞击靶材时靶中的分子或原子被撞击出来的现象，此原理是以靶为阴，以基板为阳，在10-2torr左右的ar气氛中加以高电压时阴附近的ar气离子化后变成ar+，与阴相撞击，被ar+离子所撞击飞出的分子或原子撞上基板而堆积形成薄膜。

溅射应用范围广，利用其薄膜的机能则是以耐磨耗性、耐蚀性、耐热性抗静电或装饰性为目的，但是因附著力的问题少见于刀具的应用。适用于大宗连续性镀膜，例如手机零件等。