pvd真空镀膜公司-pvd真空镀膜-金百辰按需定制

宽带通滤光膜

近期成功的应用，是用于制造低辐射玻璃(low-e玻璃)，pvd真空镀膜，可以用于发展一种反射而又可透过太阳光的建筑窗口玻璃。这在能源费用不断上涨的今天，光学薄膜必将发展成一个大的产业。

由此可见，光学薄膜在光学装置中起到了重要的作用，我们甚至可以认为，没有光学薄膜就没有近代光学系统。光学薄膜的应用领域也随着科学技术的发展而不断发展，光学薄膜与光电子薄膜结合，与能源、等其他新技术结合，除了不断地创造着新概念、新应用外，pvd真空镀膜厂商，还会不断地产生新兴产业，推动着光学薄膜朝着更宽广的范围、更纵深的领域发展。

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜与您分享电子束蒸发

电子束蒸发是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中，用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种方法。蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，电子束只轰击其中很少的一部分物质，其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度，可以看作被击部分的坩埚。因此，电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

电子束蒸发源的结构形式可以分为直式(布尔斯)、环形(电偏转)和e形(磁偏转)3种。在一个蒸发装置内可以安置一个或者多个坩埚，这可以同时或者分别蒸发沉积多种不同物质。电子束蒸发源有下述优点:

1、电子束轰击蒸发源的束流密度高，pvd真空镀膜厂，能获得远比电阻加热源的能量密度，可以蒸发高熔点材料，如w，mo，a1203等:

2、镀膜材料置于水冷铜坩埚中，可以避免发源 材料的蒸发，以及两者之间的反应;

3、热量可以直接加到镀膜材料的表面，使得热，热传导和热辐射的损失少.电子束加热蒸发方式的缺点是电子发出的一次电子和镀膜材料表面发出的二次电子会使蒸发原子和残余气体分子电离，这有时候会影响膜层。