







离子镀基本原理是在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下,pvd真空镀膜公司,离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤:
(1)镀料的气化:即使镀料蒸发,升华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,舟山pvd真空镀膜,产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。


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1附着力(百格)测试1、仪器为百格刀(刀片间距1mm),上下左右割划后,以刷子轻刷表面粉屑,pvd金属真空镀膜,再以胶带贴于表面,等完全固定后并用手指稍微加压,pvd真空镀膜厂,以垂直方向瞬间拉起胶带。
2、撕落的剥离面积须达到3b以上。
3、在不割划的情况下不可有剥离脱落的现象。百格刀、3m600(或近似品)、刷子、放大镜
5b完全无剥落。
4b<5%剥落,不可有整格剥落的情况。
3b5%~15%剥落,不可有整格剥落的情况。
2b15%~15%剥落。
1b35%~65%剥落。
0b>65%剥落。
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◆一定要---产表面打底活化处理,并且确认镀膜工序全部处于开启状态
◆根据基材本身的性质不同来确定工艺参数
◆定期更换电极板,在设备上多花点时间,可以避免很多出错
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