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pvd真空镀膜设备与您分享电阻加热蒸发
电阻加热蒸发电阻加热蒸发方式是简单也常用加热方法,一般适用于熔点低于1500℃的镀膜材料,通常将线状或片状的高熔点金属(w、mo、ti、ta、氨化硼等)做成适当形状的蒸发源,义乌pvd真空镀膜设备,装上蒸镀材料,通过电流的焦耳热使镀料熔化、蒸发或者升华,蒸发源的形状主要有多股线螺旋形、u形、正弦波形、薄板形、舟形、圆锥筐形等。同时,该方法要求蒸发源材料具有熔点高:饱和蒸气压低:化学性能稳定,pvd真空镀膜设备厂家,在高温下不应与镀膜材料发生化学反应:具有---的耐热性,功率密度变化小等特点,采用大电流通过蒸发源使之---,对膜材直接加热蒸发,或把膜材放入石墨及某些耐高温的金属氧化物(如a202,bo)等材料制成的坩埚中进行间接加热蒸发。
电阻加热蒸发镀膜具有局限性:难熔金属具有低的蒸气压,难以制成薄膜:有此元素容易和加热丝形成合金:不易得到成分均匀的合金膜。由于电阻加热蒸发方式结构简单、价格低廉、易于操作,因而是一种应用很普遍的蒸发方式。


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