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什么是真空镀膜设备？

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，轮毂镀膜机，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，轮毂贴电镀膜，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀膜设备+所镀产品图程，终形成薄膜。

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

轮毂镀膜与您分享pvd真空蒸发镀膜

01、定义

pvd真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。

02、真空蒸发踱膜主要经历

1、采用各种能源方式转换成热能， 加热膜材使之蒸发或升华， 成为具有一定能星 ( 0霉 1/->;j0 . 3 e v) 的气态粒子（原子、分子和原子团）；

2 、离开膜材表面，具 有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；

3、到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜；

4、组 成 薄 膜 的 原子重组排列或产生化学键合；

03、原理及特点

原理：

热蒸发是在真空状况下，将所要蒸锻的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种锻膜技术。

特点：

设备简单、操作容易

海膜纯度高，---， 厚度可控

速率快、、可用掩膜 获得清晰图形

薄膜生长机理比较单纯

缺点：

不易获得结晶结构的薄膜

粘膜与基片附着力小