溅射镀膜基本原理是充(ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(ar)原子电离成离子(ar+)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，pvd真空镀膜炉，称直流(qc)溅射，射频(rf)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(m)辉光放电引起的称磁控溅射。 电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。
物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境---，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
随着---及新兴工业发展，物理气相沉积技术出现了不少新的的亮点，如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术，大型矩形长弧靶和溅射靶，非平衡磁控溅射靶，孪生靶技术，韶关pvd真空镀膜机，带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术，条状纤维织物卷绕镀层技术等，pvd真空镀膜机厂，使用的镀层成套设备，向计算机全自动，大型化工业规模方向发展。
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1.除特殊涂层外，pvd真空镀膜机大概多少钱一台，涂层材料必须是导电的；
可以涂层材料包括：高合金工具钢、高速钢、不锈钢、硬质合金、钛合金等；
2.由于涂层生成温度在380-500℃，因此涂层工件的材料要能够承受500℃的温度而不发生性能变化（如挥发、变形、变软等），一般需要热处理3次高温回火处理；特殊低温（260-380℃）涂层工艺可降低涂层温度，具体可视工件的回火温度以及性能要求而定；
3.工件能够在涂层前进行退磁处理。
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