真空镀膜加工-真空镀膜-金百辰按需定制

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    2024-1-25

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金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

真空镀膜与您分享真空溅射镀膜

定义

给靶材施加高电压(形成等离子状态),使正荷电气体离子撞击靶材、金属 原子飞弹,而在样品表面形成金属皮膜的方法。

真空溅射锁膜的优缺点

优点:

· 对于任何待锁材料,只有 能做成靶材,就能实现溅射

· 溅射所获得的薄膜与基片结合---

· 溅射所获得的薄膜纯度高, 致密性好

· 溅射工艺可重复性好,真空镀膜,膜 厚 可控制, 同 时司 以 在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜







真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制zrn膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源,以及脉冲偏压电源。

(1)抽真空

5 x 10-3~6.6 x 10-13pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100~150℃。

(2)轰击清洗

真空度:通---真空度保持在2~3pa。轰击电压:800~1000v,脉冲占空比20%。轰击时间:10min。

(3)手套箱

沉积锆底层

真空度:通入气,真空度保持在s x l0-1pa。靶电压:400—550v,靶功率15 n 30w/crrr2。脉冲偏压:450~500v,占空比20 %。手套箱时间:5~10min。

镀zrn膜

真空度:通入氮气,真空度保持在(3~5) x 10-1pa。靶电压:400~550v,靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压:150~200v,占空比80 %。手套箱时间:20~30min。

由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低,不容易进行反应沉积,真空镀膜市场,获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化,扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源,柱状弧源还是辅助手套箱源。








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真空镀膜与您分享在过去几年中,越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统,同时,用户对性能的要求不仅没有降低,反而有所提高,---是在薄膜密度和---吸水后光谱变化化等方面。

现在,真空镀膜厂家,系统的平均尺寸规格已经在降低,而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此,选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑:对镀膜产品的预期性能,基片的尺寸大小和物理特性以及---高度一致性工艺所必需的所有技术因素。







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