







物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境---,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
随着---及新兴工业发展,物理气相沉积技术出现了不少新的的亮点,如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术,武义轮毂镀膜,大型矩形长弧靶和溅射靶,宝马轮毂镀膜,非平衡磁控溅射靶,孪生靶技术,带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术,条状纤维织物卷绕镀层技术等,使用的镀层成套设备,向计算机全自动,大型化工业规模方向发展。

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轮毂镀膜与您分享项次试验项目规格值测定器
1附着力(百格)测试1、仪器为百格刀(刀片间距1mm),上下左右割划后,轮毂电镀膜,以刷子轻刷表面粉屑,再以胶带贴于表面,等完全固定后并用手指稍微加压,以垂直方向瞬间拉起胶带。
2、撕落的剥离面积须达到3b以上。
3、在不割划的情况下不可有剥离脱落的现象。百格刀、3m600(或近似品)、刷子、放大镜
5b完全无剥落。
4b<5%剥落,不可有整格剥落的情况。
3b5%~15%剥落,不可有整格剥落的情况。
2b15%~15%剥落。
1b35%~65%剥落。
0b>65%剥落。
什么是真空镀膜设备?
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,轮毂镀膜价格,磁控溅射,mbe分子束外延,pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀膜设备+所镀产品图程,终形成薄膜。


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