上海pvd真空镀膜设备-金百辰(商家)

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真空蒸镀原理

(1) 真空蒸镀是在真空条件下，pvd真空镀膜设备厂家，将镀料加热并蒸发，使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。

(2)气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。

(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。

蒸发源

将镀料加热到蒸发温度并使之气化，这种加热装置称为蒸发源。的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源，特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、辐射加热、激光加热蒸发源等。