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真空镀膜与您分享高频感应加热蒸发
高频感应加热蒸发是将装有镀膜材料的坩埚放置在高频螺旋线圈的中央,使镀膜材料在高频电磁场的感应下产生---的涡流电流和磁滞效应,致使膜层升温,直至气化蒸发。蒸发源一般有水冷高频线圈和石墨或者陶瓷(氧---、氧化铝、氧化硼等)坩埚组成。高频电源采用的频率为1万至几十万赫兹,真空纳米镀膜,输入功率为几至几百千瓦,膜材体积越小,感应频率越高。感应线圈频率通常用水冷铜管制造。高频感应加热蒸发方法的缺点是不易对输入功率进行微调,它有下述优点:
1、蒸发速率大:
2、蒸发源温度均匀稳定,不易产生镀料液滴飞溅的现象,也可以避免沉积在薄膜上产生现象:
3、蒸发源一次装料,余姚真空镀膜,温度控制比较容易,操作简单。
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真空镀膜与您分享 磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标,因此有---研究影响磁控溅射均匀性的因素,以---的实现磁控溅射均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中,闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺线运动,在运动过程中不断撞击工作气体气电离出大量的离子,离子在电场作用下加速轰击靶材,溅射出呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。所以要实现均匀的镀膜,就需要均匀的溅射出靶原子(或分子),真空镀膜加工,这就要求轰击靶材的离子是均匀的且是均匀的轰击的。由于离子在电场作用下加速轰击靶材,所以均匀轰击很大程度上依赖电场的均匀。而离子来源于被闭合的磁场束缚的电子在运动中不断撞击的工作气体气,这就要求磁场均匀和工作气体气均匀。但是实际的磁控溅射装置中,这些因素都是不均匀的,这就有---研究他们不均匀对成膜均匀性的影响。
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真空镀膜与您分享光学薄膜的应用前景
由于光学薄膜具有---的性能,使其不仅可以应用在光学领域中,轮毂真空镀膜,我们生活中的各个领域都有应用,我们的手机电脑屏幕,眼镜外层的薄膜,光学器件和光通信中的应用更是不胜枚举。现在光学薄膜在中的应用范围也在逐渐扩宽,如弹中的激光器,滤光片;的传感器,警戒系统,上面都镀有光学薄膜。
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