磐安pvd镀膜机-金百辰镀膜机制造商-真空pvd镀膜机

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1.冷阴极电弧 阴极电弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流的弧光放电将靶材气化、离化成等离子体状态,从而实现薄膜材料的沉积。近阴极电弧蒸发源有新的发展,主要是通过有效强制冷却和电磁场的设计,在两者共同作用下,使靶材的离化率更高,薄膜性能优异。

2.磁过滤阴极弧 配以的电磁过滤系统,将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净,经磁过滤后沉积粒子的离化率达100%,因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与基体的结合力---。

3.柱状或平面状大面积电弧源 ---高离化率的同时,减少大颗粒沉积的比例,达到既有好的附着力,又有较好的表面光洁度效果。

4.中频磁控溅射 增加离化率,减少电荷积累引起的异常放电,预防靶表面现象,沉积工艺更稳定。







pvd技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度,涂层成分也由代的tin发展为tic、ticn、zrn、crn、mos2、tialn、tialcn、tin-aln、cnx、dlc和ta-c等多元复合涂层。

电镀:电镀时,镀层金属或其他不溶性材料做阳极,待镀的工件做阴极,镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰,且使镀层均匀、牢固,需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液,以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层,改变基材表面性质或尺寸。电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。







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