







金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜与您分享pvd涂层
金属表面处理pvd镀 膜特点:增寿、增硬、增值,真空镀膜工厂,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等的使用性能广泛应用于模具工业中。
pvd是英文physical vapor deition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用真空镀膜设备气体放电使钛板蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。pvd镀 膜通常称谓:金属表面处理,镀膜,镀钛,舟山真空镀膜,真空镀膜,镀铬,镀钛加工,pvd,表面处理,真空纳米镀膜,钛板,表面处理加工,真空镀膜加工,表面 处理等.
金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜与您分享被pvd涂层工件材料要求:
1.除特殊涂层外,涂层材料必须是导电的;
可以涂层材料包括:高合金工具钢、高速钢、不锈钢、硬质合金、钛合金等;
2.由于涂层生成温度在380-500℃,因此涂层工件的材料要能够承受500℃的温度而不发生性能变化(如挥发、变形、变软等),一般需要热处理3次高温回火处理;特殊低温(260-380℃)涂层工艺可降低涂层温度,具体可视工件的回火温度以及性能要求而定;
3.工件能够在涂层前进行退磁处理。
离子镀基本原理是在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下,纳米真空镀膜,离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤:
(1)镀料的气化:即使镀料蒸发,升华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。


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