pvd技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度，涂层成分也由代的tin发展为tic、ticn、zrn、crn、mos2、tialn、tialcn、tin-aln、cnx、dlc和ta-c等多元复合涂层。
电镀：电镀时，镀层金属或其他不溶性材料做阳极，待镀的工件做阴极，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰，且使镀层均匀、牢固，pvd真空镀膜机多少钱，需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液，pvd真空镀膜机厂家，以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层，改变基材表面性质或尺寸。电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。
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pvd真空镀膜机与您分享pvd镀膜工艺溅射镀膜(sputtering)
高能量的粒子撞击靶材时靶中的分子或原子被撞击出来的现象，pvd真空镀膜机，此原理是以靶为阴，以基板为阳，在10-2torr左右的ar气氛中加以高电压时阴附近的ar气离子化后变成ar+，pvd真空镀膜机大概多少钱一台，与阴相撞击，被ar+离子所撞击飞出的分子或原子撞上基板而堆积形成薄膜。
溅射应用范围广，利用其薄膜的机能则是以耐磨耗性、耐蚀性、耐热性抗静电或装饰性为目的，但是因附著力的问题少见于刀具的应用。适用于大宗连续性镀膜，例如手机零件等。
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